中國報告大廳網訊，隨著全球半導體產業的快速發展，晶圓製造技術成為推動行業進步的關鍵力量。2025中國國際半導體先進技術與應用大會將於4月22日在蘇州舉辦，聚焦半導體技術與應用的創新與突破。光刻機作為晶圓製造的核心設備，其市場需求和技術發展備受關注。全球晶圓廠設備開支持續增長，光刻機在半導體設備中的占比達到24%，顯示出其在產業鏈中的重要地位。

  一、全球晶圓廠設備開支強勁增長

  中國報告大廳發布的《2025-2030年全球及中國晶圓行業市場現狀調研及發展前景分析報告》指出，全球晶圓廠設備開支保持強勁增長態勢，預計2025年至2027年，全球300mm晶圓廠設備支出將分別達到1232億美元、1362億美元和1408億美元，同比分別增長24%、11%和3%。這一增長趨勢反映了全球半導體產業對先進位造設備的迫切需求，尤其是光刻機作為核心設備，其市場占比持續提升。

  二、光刻機市場需求與技術疊代

  光刻機是半導體製造中不可或缺的關鍵設備，其技術疊代與市場需求密切相關。隨著先進邏輯和存儲晶片製程的持續疊代，EUV光刻機的占比不斷提升。目前，全球前道光刻機市場主要由少數幾家企業壟斷，實現光刻機的國產化成為行業發展的戰略重點。光刻機的國產化不僅能夠降低對外依賴，還能提升國內半導體產業的自主創新能力。

  三、國內企業在光刻機領域的突破

  國內企業在光刻機領域取得了一系列重要突破。例如，茂萊光學為光刻機光學系統提供核心模塊，包括用於勻光、中繼照明模塊的光學器件、投影物鏡，以及用於工件台位移測量系統的稜鏡組件。這些核心模塊是光刻機實現光線均勻性與曝光成像的關鍵。此外，張江高科通過子公司投資了上海微電子公司，持有其10.779%的股權，進一步推動了國內光刻機技術的研發與應用。

  四、光刻機國產化的戰略意義

  光刻機的國產化具有重大戰略意義。它不僅能夠提升國內半導體產業的自主可控能力，還能在全球半導體市場中占據更有利的地位。隨著全球半導體銷售額預計到2030年將超過1萬億美元，20252030年複合年增長率達到9%，光刻機作為核心設備，其國產化進程將直接影響國內半導體產業的競爭力。

  總結

  全球晶圓廠設備開支的強勁增長和光刻機市場需求的持續提升，凸顯了半導體產業的技術進步與市場潛力。國內企業在光刻機領域的突破，為實現國產化奠定了堅實基礎。光刻機的國產化不僅是技術創新的體現，更是提升國內半導體產業自主可控能力的關鍵。未來，隨著技術的不斷疊代和市場的持續擴展，光刻機將在全球半導體產業中發揮更加重要的作用。