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2024年光刻機品牌有哪些 光刻機品牌龍頭合集
 光刻機 2024-12-27 03:25:51

中國報告大廳網的最新市場調研揭示了光刻機行業的品牌影響力。2024年,光刻機市場迎來了新的變化,各大品牌在產品質量、技術創新和市場占有率等方面展開了激烈的競爭。

在2024年光刻機品牌排行榜中,各大品牌通過不斷的努力和創新,提升了自身的品牌價值和市場競爭力。這些品牌在光刻機的生產和供應上占據了重要地位,不僅在國內市場有著廣泛的影響力,也在國際市場上逐漸嶄露頭角。2024年光刻機品牌排行榜的詳細排名為ASML阿斯麥、Nikon、Canon、上海微電子Smee、蘇大維格SVG、芯碁微裝、影速、中科奇點。

表1:2024年光刻機十大品牌排行榜

排名品牌名稱企業名稱省份/地址
1ASML阿斯麥阿斯麥(上海)光刻設備科技有限公司上海市
2Nikon尼康精機(上海)有限公司上海市
3Canon佳能光學設備(上海)有限公司上海市
4上海微電子Smee上海微電子裝備(集團)股份有限公司上海市
5蘇大維格SVG蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司江蘇省
6芯碁微裝合肥芯碁微電子裝備股份有限公司安徽省
7影速江蘇影速集成電路裝備股份有限公司江蘇省
8中科奇點張家港奇點光電科技有限公司江蘇省

一、品牌簡介

(一)ASML阿斯麥

創於1984年荷蘭,享譽業內的光刻機製造企業,全球知名的半導體光刻機設備及服務提供商,主要從事光刻機的研發、生產、銷售的大型企業

ASML是半導體行業的創新者,為晶片製造商提供他們需要的一切硬體、軟體和服務,通過平版印刷術在矽上大量生產圖案。

ASML是領先的晶片製造設備製造商之一。這是一個常見的誤解,ASML製造晶片,也稱為微晶片或集成電路(ICs),但實際上設計和製造的光刻機是晶片製造中的一個重要組成部分。ASML的客戶是英特爾等公司,他們在「晶圓廠」(微晶片製造廠)使用ASML的機器製造微晶片,用於許多電子設備,包括智慧型手機、筆記本電腦等。

ASML不再是任何事物的縮寫,儘管它確實有一個根源。1984年,當ASML作為飛利浦和ASM國際的合資企業成立時,選擇了「先進半導體材料光刻」這個名稱,並將其作為「ASM光刻」來反映合資企業中的合作夥伴。久而久之,這個名字就變成了「ASML」。有超過32000名ASML員工在全球60多個地點的辦事處發放工資並簽訂靈活的合同,公司總部位於荷蘭Veldhoven,超過一半的員工超過16800人在那裡工作。

(二)Nikon

隸屬於尼康精機事業部,專業光刻機品牌,主要從事​​半導體裝置與FPD曝光設備的售後服務諮詢​業務,產品涵蓋半導體光刻設備/FPD曝光設備等,在FPD曝光系統領域擁有較高市場占有率

尼康精機(上海)有限公司主要從事半導體裝置與FPD曝光設備的售後服務諮詢業務。集成電路晶片和高解析度平板顯示器是推動IoT和AI進步的關鍵,尼康從事這些部件的電路圖曝光製造系統的研發和生產,助力智能社會的創建。

FPD曝光設備可將電路圖投射到玻璃基板的表面,以控制每個像素。尼康提供多套系統廣泛應用於從採用獨特的多鏡頭系統的大型面板到採用智能設備的小型和中型面板生產的整個領域。通過不斷的技術開發,在FPD曝光系統領域尼康擁有很高的市場占有率。

半導體光刻設備可縮小電路圖形尺寸,並將其投射到晶片上。對於集成電路晶片生產起到關鍵作用的此類曝光系統具備低至納米(十億分之一米)的高精度,該系統也被公認為是迄今為止格外精密的設備。

(三)Canon

專業光刻機品牌,專業提供半導體及液晶面板生產設備營業輔助業務和技術支持業務的企業,產品涵蓋半導體光刻機、PPD曝光機、光學傳感器等,業務涉及半導體、液晶面板、有機EL板等高科技製造業領域

佳能光學設備(上海)有限公司是佳能公司在中國大陸地區成立的提供半導體及液晶面板生產設備營業輔助業務和技術支持業務的公司。公司所經營的產品除了佳能公司製造的半導體及液晶面板生產用曝光裝置以外,還包括佳能機械公司,佳能安內華公司以及佳能特機公司承接的全部半導體及液晶面板生產設備。

佳能公司在中國大陸地區從事半導體及液晶面板生產設備業務的歷史可以追溯到20世紀80年代,當時開始向中國出口低端半導體曝光裝置(接近式曝光裝置、鏡面投影式曝光裝置)。20世紀90年代又為上海地區的半導體客戶企業提供了i線Stepper、等離子除膠設備、常壓成膜設備等各類佳能集團製造的半導體設備。進入21世紀,隨著中國半導體前道工藝的迅速發展,佳能進一步將KrFScanner等高端的半導體曝光裝置引進到國內。當時,佳能公司與三井物產集團建立了合作夥伴關係,進一步擴大了在中國的產品銷售範圍,在中國的液晶面板生產設備市場也得到了順利的拓展,其中佳能的液晶面板曝光裝置從中國液晶產業初期開始始終保持著極高的市場占有率。

如今,在半導體、液晶面板以及有機EL板等高科技製造業領域,佳能公司正在加快向亞洲生產基地、尤其是向中國市場的投資轉移。公司今後將作為佳能的集團企業通過與生產廠家的直接接洽,進一步加強對客戶企業的支持力度,力爭以此實現提高顧客滿意度、擴大事業規模的目標。

(四)上海微電子Smee

成立於2002年,致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發/設計/製造/銷售/技術服務,主要生產光刻機、雷射封裝設備、光配向設備等,廣泛用於集成電路、先進封裝、FPD面板等製造領域

上海微電子裝備(集團)股份有限公司(簡稱SMEE)主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務。公司設備廣泛應用於集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等製造領域。

SMEE致力於以極致服務,造高端產品,創卓越價值,全天候、多方位、全身心地為顧客提供優質產品和技術服務。

SMEE已通過ISO27001信息安全、ISO9001質量管理和ISO14001環境管理等體系的國際認證,力求為客戶提供持續、穩定、高品質的產品和服務,並履行一個優秀的高科技企業的社會責任。

(五)蘇大維格SVG

蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司2001年10月註冊,2012年在深交所上市,是一家以自主研發的三維光刻設備為核心驅動力,面向信息光子和新型顯示領域,進行光電子材料器件研究和產業化的股份制民營企業。目前公司已發展成為1總部+1創新中心+12個控股子公司,擁有近20萬平米廠房,占地600餘畝的集團企業。

蘇大維格在大面積微納三維光刻、納米光刻、納米壓印、納米結構功能化、功能材料的數字設計等方面,已形成顯著特色和優勢,系統提出並實現微納製造領域原創基礎技術、先進算法和重大工藝裝備,打破對外依賴,成為微納製造領域少數具有核心競爭力的創新性企業。

(六)芯碁微裝

合肥芯碁微電子裝備股份有限公司(簡稱:芯碁微裝,證券代碼:688630),成立於2015年6月,註冊資本12080萬元,坐落於合肥市高新區集成電路產業基地。公司專門從事以微納直寫光刻為技術核心的直接成像設備及直寫光刻設備的研發和生產,主要產品及服務包括PCB直接成像設備及自動線系統、泛半導體直寫光刻設備及自動線系統、其他雷射直接成像設備。

公司堅持自主研發與創新,擁有完整的自主智慧財產權。憑藉團隊領先的研發水平,公司目前擁有智慧財產權百餘項。芯碁微裝專注服務於電子信息產業中PCB領域及泛半導體領域的客戶,通過優秀產品幫助客戶在提升產品品質和降低生產成本的同時實現數位化、無人化、智能化發展。經過多年的深耕與積累,累計服務400多家客戶,包括深南電路、健鼎科技等行業龍頭企業,同時也與多家上市公司簽訂了戰略合作協議。

「滿足客戶需求,超越客戶期待」,公司不斷完善銷售與售後服務體系,陸續設立了深圳分公司、蘇州子公司等服務網點,為客戶提供7*24小時的售後支持。2021年,公司建成35000平米集研發、生產、辦公於一體的智能化研發製造基地,這是芯碁微裝發展騰飛過程中新的里程碑。公司將繼續堅持戰略創新、技術創新、機制創新和人才創新,用創新和技術創造更多的社會價值和商業價值。

(七)影速

江蘇影速集成電路裝備股份有限公司、無錫影速半導體科技有限公司是由中科院微電子研究所聯合業內專業技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業,在江蘇省無錫市、徐州市均設有研發中心及生產基地,並在廣東、江蘇、江西、湖北、四川及台灣地區設有辦事處,專門負責產品銷售及客戶服務。

公司致力於對大規模集成電路用光刻及檢測技術的研發與創新,並提供全套解決方案,全力打造一個國際一流、技術先進、品質精良、服務完善的微電子裝備研發、製造、供應及服務體系。

(八)中科奇點

張家港奇點光電科技有限公司是由中科院重慶綠色智能技術研究院、張家港政府和中科院科研團隊共同出資成立的光電領域科技企業。公司秉承「創新為魂,市場為本」的理念,將光電領域創新科技應用到曝光機設備,生產出UVLED曝光機模組產品,該產品在PCD印刷電路板行業的應用打破了曝光設備被歐洲和日本的壟斷。

公司正進一步拓展業務領域,五年進入LCD液晶面板領域乃至半導體集成電路領域,實現曝光機核心設備國產化目標。

二、品牌優勢

在任何領域的企業成功,專利信息和起草標準的重要性不容忽視。專利信息是企業創新的重要產物,它可以保護企業權益,提升企業競爭力;起草標準則是企業產品製造和服務領域的質量保障,有助於規範市場行為,提高行業基礎標準。

(四)上海微電子Smee

表2:專利信息

序號專利號/專利申請號專利名稱
1ZL201310747393.8一種調焦調平裝置
2ZL201410857409.5一種矽片邊緣保護裝置
3ZL201110241791.3一種步進光刻設備及光刻曝光方法

表3:起草標準

標準號標準名稱發布日期實施日期
GB/T 40577-2021集成電路製造設備術語2021-10-112022-05-01

(五)蘇大維格SVG

表4:專利信息

序號專利號/專利申請號專利名稱
1ZL201510778086.5指向性彩色濾光片和裸眼3D顯示裝置
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